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化合物蒸發鍍膜材料

根據用戶需求定制

化合物蒸發鍍膜材料/粉末
品名 熔點(℃) 密度(g/cm3) 純度 規格mm
氧化釤Sm2O3 2350 7.4 3N Φ10壓片/粉末
氧化鎂MgO 2800 3.58 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
氧化釹Nd2O3 2272 7.2 3N Φ10壓片/粉末
氧化鉍Bi2O3 820 8.9 3N Φ10壓片/粉末
氧化鐠Pr6O11 2125 6.88 3N 顆粒/粉末
氧化釩V2O5 690 3.36 3N 顆粒/粉末
氧化鎳NiO 1990 7.45 2N5-3N Φ10壓片/粉末
氧化鐵Fe2O3 1565 5.24 3N Φ10壓片/粉末
氧化鋅ZnO 1975 5.6 3N Φ10壓片/粉末
氧化鉻Cr2O3 2435 5.2 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
氧化銅CuO 1326 6.3 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
氧化釓Gd2O2 2310 7.4 3N Φ10壓片/粉末
一氧化硅SiO 升華 2.1 4N 顆粒/粉末
一氧化鈦TiO 1750 4.93 4N Φ30/10壓片/顆粒/粉末
二氧化鉿HfO2 2812 9.7 4N Φ10壓片/顆粒/粉末
二氧化鋯ZrO2 2700 5.5 3N-4N Φ5壓片/顆粒/粉末
二氧化鈦TiO2 1800 4.29 4N Φ30/10壓片/顆粒/粉末
三氧化二鈦Ti2O3 1880 4.53 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
五氧化三鈦Ti3O5 1750 4.57 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
二氧化硅SiO2 1610 2.2 4N 晶體顆粒/粉末
二氧化鈰CeO2 2600 7.3 4N Φ10壓片/顆粒/粉末
氟化鉺ErF3 1350 4N 顆粒/粉末
氟化鈰CeF3 1418 6.16 2N5-3N Φ10顆粒/粉末
氟化釔YF3 1387 4.01 4N 顆粒/粉末
氟化鐿YbF3 1157 8.17 4N 顆粒/粉末
氟化鑭LaF3 1490 6 4N 顆粒/粉末
氟化釔YF3 1387 4.01 4N 顆粒/粉末
氟化釤SmF3 1306 \ 4N 顆粒/粉末
氟化鏑DyF3 1360 \ 3N 顆粒/粉末
氟化釹NdF3 1410 6.5 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
氟化鈉NaF 988 2.79 3N 顆粒/粉末
氟化鉀KF 880 2.48 4N 顆粒/粉末
氟化鈣CaF2 1360 \ 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
氟化鋇BaF2 1280 4.8 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
氟化鎂MgF2 1266 4.2 3N-4N 晶體顆粒/粉末
氟化鍶SrF3 1450 4.24 3N 顆粒/粉末
冰晶石Na3AiF6 1000 2.9 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
硫化鋅ZnS 1830 4.1 4N Φ10壓片/顆粒/粉末
硫化鎘CdS 1750 4.8 3N Φ10壓片/粉末
硒化鋅SeZn \ \ 5N 顆粒/粉末
氮化硅SiN 升華 3.44 3N 顆粒/粉末
碳化硅SiC 2700 3.22 4N 顆粒/粉末
碳化鉿HfC 2900 12.2 3N 粉末
氮化鈦TiN 2050 \ 4N 顆粒/粉末
氮化鋁AlN 升華 3.26 4N 顆粒/粉末
二硼化鈦TiB2 2980 4.5 4N 顆粒/粉末
二硼化鋯ZrO2 3040 6.08 4N 顆粒/粉末
鈦酸鋇BaTiO3 1620 \ 4N Φ10壓片/粉末
鈦酸鍶SrTiO3 \ \ 3N Φ10壓片/粉末
鈦酸鐠PrTiO3 2200-2300 \ 3N Φ10壓片/顆粒/粉末
混合化合物蒸發鍍膜材料
品名
氧化鋅氧化鋁混合物(ZnO+Al2O3)
氧化鈰氟化鈣混合物(CeF3+CaF21:1)
氧化鋯氧化鉭混合物(ZrO2+Ta2O57:3)
氧化鈦氧化鉭混合物(TiO2+Ta2O51:1)
氧化鈦氧化鈮混合物(TiO2+Nb2O57:3)
氧化鋯氧化釔混合物(ZrO2+Y2O34:1)
氧化鋯氧化鋁混合物(ZrO2+Al2O54:6)
氧化鋁氧化鈦混合物(Al2O3+TiO29:1)
氧化鋁氧化鎂混合料(Al2O3+MgO1:1)
氧化銦氧化錫混合物(In2O3+SnO29:1 95:5)
氧化錫氧化銦混合物(SnO2+Zn2O35%)
氧化鋯氧化鈦混合物(ZrO2+TiO51:1)

銷售經理
陳青濤
銷售-楊艷 銷售-屈玲玲 銷售-孫垚

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